ترانزیستور ماسفت سهگیتی با استفاده از دیود تونلزنی سیلیسیم-ژرمانیم برای بهبود اثر بدنه شناور
Authors
Abstract:
در این مقاله ساختار جدیدی برای ترانزیستور سهگیتی (SG-TD) ارائه شده است. در این ساختار با به کار بردن سیلیسیم-ژرمانیوم در ناحیه سورس و ایجاد تونلزنی به درون ناحیه سورس، مشخصههای ماسفت سهگیتی در مقایسه با ساختار ماسفتهای سهگیتی مرسوم (C-TG) بهبود داده شده است. در ساختار پیشنهادی علاوه بر اینکه عایق بودن ترانزیستور در زیر کانال حفظ میشود، اثرات منفی آن نیز کاهش مییابد. در ساختار ارائه شده برای جلوگیری از تجمع حفرهها درون سطح کانال از سیلیسیم-ژرمانیوم استفاده شده است. این کار باعث کاهش اثر بدنه شناور (FBE)، اثر خودگرمایی (SHE) و جریان چگالی حفرهها در ماسفتهای سهگیتی میشود. نتایج این ساختار با نرمافزار Silvaco بهصورت سهبعدی شبیهسازی شده است.
similar resources
ارائه ساختاری جدید از ترانزیستورهای اثرمیدان در مقیاس نانو بهمنظور بالابردن قابلیت اطمینان
ترانزیستورهای ماسفت با تکنولوژی سیلیسیم روی عایق کاربرد وسیعی در صنعت الکترونیک دارند. اما وجود لایه عایق در این ساختارها باعث مشکلاتی مانند اثر بدنه شناور و اثر خودگرمایی میگردند. بهمنظور بالابردن عملکرد الکتریکی، در این مقاله یک ترانزیستور ماسفت سیلیسیم روی عایق در مقیاس نانو ارائه میگردد. ساختار پیشنهادی با نام QSZ-MOSFET ارائه میگردد که در آن چهار ناحیه سیلیسیمی در کانال و در اکسید مدفو...
full textطراحی ساختاری از ترانزیستور ماسفت دوگیتی با بهکارگیری دو ماده، اکسید هافنیم (HfO2) و سیلیسیم-ژرمانیوم (SiGe) در کانالی از جنس سیلیسیم (DM-DG)
در این مقاله ساختار جدیدی از ترانزیستور دوگیتی به نام ترانزیستور DM-DG ارائهشده است. در این ساختار با به کار بردن عایق HfO2 در مرز ناحیه کانال و درین و همینطور استفاده از سیلیسیم-ژرمانیوم در ناحیه سورس منجر به بهبود ساختار در مقایسه با ساختارهای متداول دوگیتی (C-DG) شده است. ناحیه عایق HfO2 بهطور قابلتوجهی میدان الکتریکی را در ناحیه کانال و درین کاهش میدهد؛ بنابراین فرآیندهای مخرب در ساختا...
full textطراحی ساختاری از ترانزیستور ماسفت دوگیتی با به کارگیری دو ماده، اکسید هافنیم (hfo۲) و سیلیسیم-ژرمانیوم (sige) در کانالی از جنس سیلیسیم (dm-dg)
در این مقاله ساختار جدیدی از ترانزیستور دوگیتی به نام ترانزیستور dm-dg ارائه شده است. در این ساختار با به کار بردن عایق hfo2 در مرز ناحیه کانال و درین و همین طور استفاده از سیلیسیم-ژرمانیوم در ناحیه سورس منجر به بهبود ساختار در مقایسه با ساختارهای متداول دوگیتی (c-dg) شده است. ناحیه عایق hfo2 به طور قابل توجهی میدان الکتریکی را در ناحیه کانال و درین کاهش می دهد؛ بنابراین فرآیندهای مخرب در ساختا...
full textاثر بربرین در تنظیم آستروسیتهای Gfap+ ناحیه هیپوکمپ موشهای صحرایی دیابتی شده با استرپتوزوتوسین
Background: Diabetes mellitus increases the risk of central nervous system (CNS) disorders such as stroke, seizures, dementia, and cognitive impairment. Berberine, a natural isoquinolne alkaloid, is reported to exhibit beneficial effect in various neurodegenerative and neuropsychiatric disorders. Moreover astrocytes are proving critical for normal CNS function, and alterations in their activity...
full textاثر بربرین در تنظیم آستروسیتهای Gfap+ ناحیه هیپوکمپ موشهای صحرایی دیابتی شده با استرپتوزوتوسین
Background: Diabetes mellitus increases the risk of central nervous system (CNS) disorders such as stroke, seizures, dementia, and cognitive impairment. Berberine, a natural isoquinolne alkaloid, is reported to exhibit beneficial effect in various neurodegenerative and neuropsychiatric disorders. Moreover astrocytes are proving critical for normal CNS function, and alterations in their activity...
full textترانزیستور اثر میدان فلز-نیمه هادی در تکنولوژی سیلیسیم روی عایق با استفاده از یک تکه اکسید اضافی در کانال برای کاربردهای توان و فرکانس بالا
چکیده: در این مقاله یک ساختار جدید از ترانزیستور اثر میدانی فلز نیمههادی در تکنولوژی SOIمعرفی میشود که مشخصات DCو فرکانسی بهتری نسبت به ساختارهای متداول دارد. ایده اصلی مقاله بر مبنی تغییر چگالی حاملها توسط یک تکه اکسید اضافی چسبیده به لایه مدفون اکسید در سمت درین است. بهبود عملکرد قطعه توسط شبیهساز دوبعدی بررسی میشود. در ساختار پیشنهادی ولتاژ شکست از V13 در ساختار متداول به V19 در ساخ...
full textMy Resources
Journal title
volume 48 issue 3
pages 985- 990
publication date 2018-11-22
By following a journal you will be notified via email when a new issue of this journal is published.
Hosted on Doprax cloud platform doprax.com
copyright © 2015-2023